반도체 산업에서의 고온계
결정 성장 및 웨이퍼 공정의 비접촉식 온도 측정에 대한 애플리케이션 보고서
애플리케이션 보고서 반도체 산업
반도체 산업은 광전지, 마이크로칩, LED, 레이저 등 제품의 성능과 생산 비용에 대한 요구가 증가하면서 빠르게 성장하고 있는 시장입니다. 이러한 제품을 제조하기 위한 공정 체인에는 가능한 한 완벽한 결정 격자를 가진 순수한 반도체 기판의 추출과 추가 가공이 포함됩니다.
이러한 추가 공정에는 웨이퍼의 열처리 및 코팅이 포함됩니다. 공정 온도는 반도체 생산에서 결정적인 요소입니다. 결함을 방지하고 높은 수율을 달성하기 위해서는 결정 성장 및 웨이퍼 공정 중에 특정 온도 범위를 준수해야 합니다. 따라서 실시간 온도 측정은 매우 중요합니다. 고온계를 이용한 광학 온도 측정은 반도체의 적외선을 통해 접촉 없이 신속하게 정확한 공정 온도를 측정할 수 있는 이상적인 방법입니다. 까다롭고 다양한 측정 작업에는 최적의 맞춤형 고온계 솔루션이 필요합니다.
이러한 추가 공정에는 웨이퍼의 열처리 및 코팅이 포함됩니다. 공정 온도는 반도체 생산에서 결정적인 요소입니다. 결함을 방지하고 높은 수율을 달성하기 위해서는 결정 성장 및 웨이퍼 공정 중에 특정 온도 범위를 준수해야 합니다. 따라서 실시간 온도 측정은 매우 중요합니다. 고온계를 이용한 광학 온도 측정은 반도체의 적외선을 통해 접촉 없이 신속하게 정확한 공정 온도를 측정할 수 있는 이상적인 방법입니다. 까다롭고 다양한 측정 작업에는 최적의 맞춤형 고온계 솔루션이 필요합니다.
특징
- 전체 측정 범위에서 일관되게 높은 신호 분해능을 제공하는 하이브리드 신호 처리로 매우 넓은 측정 범위 높은 광학 분해능을 위한 광대역 편향 정밀 광학 장치
- 공정 온도에서 특수 보정
- 정광 기술 기반의 드리프트 프리 센서로 매우 높은 장기 안정성 제공